我在腾飞年代搞科研第206章 时间已所剩无几

秦昊阳指向前方一台设备“你看这里的对准误差控制已经压到工艺极限稍微偏个0.02微米良率就跳水。

每天设备维护和重复校准几乎占了工程师一半精力。

” 良率是芯片制造中的一个关键指标指的是生产过程中产出的“合格产品”占总产品数量的比例。

良率越高说明制造工艺越稳定单颗芯片成本越低。

核心设备精度不稳工程师被迫将大量时间耗在维护和重复校准上原本应投入工艺改进的空间被严重压缩。

而工艺迟滞又加剧了设备老化使整个系统陷入恶性循环。

姜蕴宁俯身看了看控制面板目光落在关键参数上随口问：“你们用的是193nm的浸没式ArF光刻机吧？” 秦昊阳点头道：“是的193nm浸没式ArF光刻机理论上支持14纳米及以上工艺我们利用多重曝光技术勉强实现了7纳米节点的小规模试产但良率低远不能满足大规模量产需求。

至于更先进的5纳米制程目前完全无法实现。

” 对“苍穹X1”来说它还能勉强应付。

但到了“苍穹X2”这台设备的能力已经完全无法支撑。

更不用说之后的核心芯片制程——它根本迈不过那道制程门槛。

姜蕴宁没应声视线继续下移在掩膜台控制界面上停了一秒若有所思地开口：“掩膜台系统还是老一代的多层驱动结构？” 掩膜台是光刻机中负责精确移动光掩膜的位置系统要求极高的定位精度和响应速度以确保图案准确投射到硅片上。

当前国内采用的掩膜台驱动技术相对老旧难以满足更高的精度和更快的响应需求已成为限制芯片制造精度提升的关键瓶颈之一。

还以为姜蕴宁只是来走个过场没想到她问题一个接一个。

秦昊阳苦笑道：“没错设备老旧升级空间有限。

姜工您这是来‘查账’的吧？” 姜蕴宁轻笑一声目光却依旧盯着那台缓慢运转的设备：“193nm光源本身就接近极限了要做到7纳米以下掩膜畸变和热漂移这些问题根本绕不过去。

光源功率有限对准系统又落后光靠调整工艺根本救不了。

” 她转头问秦昊阳：“这台设备还能撑多久？” “如果‘苍穹X1’继续上量……最多半年这还是最乐观的估计。

原本订购的新设备因为灯塔国突然收紧技术封锁和贸易限制被全面叫停先进材料和高端设备的供应被切断。

之前大家都没料到灯塔国会突然加码封锁导致所有新设备的订单瞬间陷入停滞。

我们原以为现有设备还能支撑一段时间准备工作也在有序推进中却没想到被打了个措手不及。

” 他顿了顿目光落在远处缓慢运转的光刻机上： “而对‘苍穹X2’这类更高规格芯片的需求来说现在这批光刻机根本跟不上分辨率和系统稳定性都已经压到了极限。

说得直白点现在的设备已经无法‘看清楚’掩膜版上的关键细节越复杂的线路误差越大。

” 姜蕴宁点了点头目光更加坚定：“也就是说想要真正突破就得从设备本身动刀靠工艺参数的小修小补已经远远不够了。

” 时间已所剩无几。

“苍穹X2”的出现显然让他们感受到了真正的威胁。

走访结束后姜蕴宁独自坐在控制室翻阅技术日志一页页调阅良率波动曲线与关键设备误差记录。

数据清晰得近乎残酷：光刻系统的极限早已不是某个参数的问题而是整套系统架构落后、性能瓶颈日益加重的系统性崩溃。

她在笔记本上写下几个关键词：“EUV光源”、“多重对准系统”、“热场控制”、“平台稳定性”。

那一刻她心中已有明确方向。

光刻机必须有人来攻克。

如果没有那她来。

姜蕴宁离开芯片制造车间后直奔上级主管部门的办公室。

一个星期后姜蕴宁现身于华国光电设备研究所。

这所研究所是国内最早涉足光刻设备研发的单位之一长期扎根于193nm ArF系统积累了深厚的技术经验在机械控制、光学调校等关键环节具备坚实基础。

然而在更高阶的EUV领域却始终难以迈出关键一步。

她随行简约仅携带一台笔记本电脑里面载有“苍穹X2”后期架构模拟器、压缩算法模型及若干关键工艺分析图表以及一本亲手撰写的技术笔记。

两名安保人员默默陪同这场闭门对接没有对外披露。

她来此并非寻求配合而是带着方案而来。

研究所所长莫清文刚收到来自最高层的指示——全力支持姜蕴宁工程师的工作集中调配所内资源攻克光刻机技术瓶颈。

鉴于当前技术受限与国家战略需求的双重压力必须加快投入、优先保障、强化攻关推动国产光刻设备实现关键突破与加速产业化。

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